碳纳米生长系统
产品概述：
碳纳米生长系统是一种基于化学气相沉积（CVD）技术的高性能纳米材料制备仪器，专为生长碳纳米管、石墨烯、碳纤维等碳基纳米材料而设计。
产品特点：
高效制备技术：采用先进的化学气相沉积（CVD）工艺，专为生长碳纳米管、石墨烯、纳米碳纤维等高性能碳基纳米材料而设计，确保材料的高质量与高性能。
广泛适用场景：适用于高校、科研机构及企业等材料制备相关实验室，满足工艺研发、技术验证及小批量试产的多元化需求。
多功能性与兼容性：
材料适配性：可制备直径150nm、长度1200μm的碳纳米管；单层率>95%、缺陷密度<0.5%的石墨烯；以及直径5~10μm、拉伸强度≥3.5GPa的碳纤维。
基底兼容性：支持金属箔（如Cu、Ni、Fe）、陶瓷（如Al₂O₃、SiC）及柔性聚合物（如PI、PET）等多种基底生长，拓宽应用范围。
优化生长环境：
精确控制气体在反应腔内的扩散路径，确保基材表面纳米材料生长的均匀性（CV<5%）。
通过预设编程参数，灵活匹配不同材料（如单壁/多壁碳管、少层石墨烯）的生长需求。
高性能加热与温控系统：
炉膛长度250mm，功率1.4kW，支持最高1100℃持续加热。
配置S型高精度铂铑热电偶，量程0~1500℃，采用独立温控系统，6组12段分段控制程序，温控精度可达±0.5℃。
PID智能算法动态调整加热区功率，确保炉膛温度均匀性≤±1℃。
精确气体流量控制：通过质量流量计（MFC）实时监控氩气流量，量程范围50-500ml/min，精度±1%FS，确保反应过程的稳定性。
先进真空系统：内置抽真空装置，抽速0.5L/s，极限真空度-80kPa，工作真空度-50kPa~-60kPa（误差±0.25%），超压时自动关闭气阀（响应时间<20ms）。
智能化与自动化：
仪器由加热与温控、气体与真空、前驱体注射、安全保护及中央控制五大系统高度协同联动运行。
采用先进的智能调节算法，无超调，具备自整定功能及掉电数据保护，实现任意斜率的升、降温控制。
前驱体注射系统采用高精度步进电机及驱动控制，完成抽液、填充、排液、注射及状态监控等功能，计量准确，操作简单。
安全可靠的设计：
炉体隔热材料采用高纯氧化铝陶瓷纤维空气凝胶复合材料，保温隔热效果好，炉体外温小于50℃。
采用快装法兰，密封性能好，真空度高，预留两个进气口，实现气氛保护功能。
废气吸收罐采用500ml串联式洗收瓶，吸附效率≥95%，确保环境友好。
UPS应急电源输出功率500W，维持关键部件运行30分钟，确保仪器在断电情况下的安全运行。
技术参数：
| 参数名称 | 规格/描述 |
| 型号 | UP-TNM50 |
| 外形尺寸(mm) | L1250*W650*H830 |
| 额定功率(kW) | 1.5 |
| 额定电压(V) | AC220/50HZ |
| 最高温度(℃) | 1200 |
| 额定温度(℃) | 1100 |
| 测温范围(℃) | 0-1500 |
| 控温精度(℃) | ±0.5 |
| 升温速率(℃/min) | 1-30℃/min可调，任意区间线性升温至目标温度 |
| 降温速率(℃/min) | 1-30℃/min可调，任意区间线性降温＊ |
| 炉管材质 | 石英管 |
| 炉管尺寸(mm) | 50*600 |
| 炉膛尺寸(mm) | ¢240-200 |
| 最大正压力(kPa) | ≤20 |
| 温度均匀性(℃) | ±1 |
| 炉管承重(kg) | 5 |
| 加热元器件 | OCr27AI7MO2电阻丝，串联连接 |
| 热电偶 | 1极精度S型热电偶 |
| 物料载体方式 | 石英坩埚 |
| 开门方式 | 对开开启式，带炉膛开启自动断电保护功能 |
| 基底兼容性 | 支持多种金属箔、陶瓷及柔性聚合物基底生长 |
| 废气处理 | 500ml串联式洗收瓶，吸附效率≥95% |
| 应急电源 | UPS 500W，维持关键部件运行30分钟 |
| 前驱体注射系统 | 高精度步进电机驱动，计量准确，操作简单 |
| 人机界面 | 7寸嵌入式触摸屏，分辨率1024*600，支持中/英文切换 |
| 数据存储与导出 | 可记录15000条实验数据，支持U盘导出 |
| 控制系统 | PLC可编程控制器，智能调节算法，自整定功能 |
| 远程控制 | 支持4G、网口连接，WEB/PC/APP/小程序监控与控制 |
| 重量(kg) | 120 |
| 安全保护 | 可燃气体泄漏自动关闭气阀，超压保护 |
| 隔热保护 | 高纯二氧化硅空气凝胶，厚度>20mm |
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